ISO 17109:2022
p
ISO 17109:2022
83666
недоступно на русском языке

Текущий статус : Опубликовано

ru
Формат Язык
std 1 129 PDF + ePub
std 2 129 Бумажный
  • CHF129
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies a method for the calibration of the sputtered depth of a material from a measurement of its sputtering rate under set sputtering conditions using a single- or multi-layer reference sample with layers of the same material as that requiring depth calibration. The method has a typical accuracy in the range of 5 % to 10 % for layers 20 nm to 200 nm thick when sputter depth profiled using AES, XPS and SIMS. The sputtering rate is determined from the layer thickness and the sputtering time between relevant interfaces in the reference sample and this is used with the sputtering time to give the thickness of the sample to be measured. The determined ion sputtering rate can be used for the prediction of ion sputtering rates for a wide range of other materials so that depth scales and sputtering times in those materials can be estimated through tabulated values of sputtering yields and atomic densities.

Preview 

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2022-03
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  •  : 2
  • ISO/TC 201/SC 4
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)