ISO 21859:2019
p
ISO 21859:2019
71990
Indisponible en français

Résumé

 Preview

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.


Informations générales 

  •  :  Publiée
     : 2019-06
  •  : 1
  •  : ISO/TC 206 Céramiques techniques
  •  :
    81.060.30 Céramiques techniques avancées

Acheter cette norme

fr
Format Langue
std 1 38 PDF + ePub
std 2 38 Papier
  • CHF38

Vous avez une question?

Consulter notre FAQ

Service à la clientèle
+41 22 749 08 88

Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Suivez l'actualité de l'ISO

Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.